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美國限制向中國出口極紫外光（EUV）光刻設備至關重要
美國白宮負責人工智能和加密貨幣事務的專員大衛·薩克斯（David Sacks）於周五表示，限制向中國出售極紫外光（EUV）光刻設備，是美國在半導體領域中「最重要的出口管制措施」。他強調，這項政策由特朗普政府開始實施，並且必須持續推行。
荷蘭ASML公司製造尖端芯片生產機器
荷蘭公司ASML生產的EUV光刻機，是製造最先進半導體芯片的核心設備。光刻系統利用光束來繪製芯片電路，而ASML的第一代EUV系統所使用的光波長屬於「極紫外光」範疇，能夠達到13納米的分辨率，甚至比病毒還細小。這類設備目前廣泛應用於智能手機及人工智能芯片的製造。
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評論與啟示
這篇報道凸顯了美國在全球半導體供應鏈中的戰略考慮，尤其是在與中國的科技競爭中，EUV光刻設備成為了關鍵的「技術瓶頸」。美國及其盟友通過限制這類高端設備的出口，意圖阻止中國在先進芯片製造領域的快速追趕，從而維持其科技優勢。
然而，這樣的出口限制政策也帶來複雜的國際政治與經濟影響。一方面，對ASML等供應商來說，限制銷售可能意味著失去龐大的中國市場，影響其業務增長。另一方面，對中國而言，這促使其加快自主技術研發，尋求突破這一關鍵技術瓶頸，長遠看可能加劇全球科技競爭的激烈程度。
從香港及全球視角來看，這反映出科技產業的地緣政治風險日益加深。香港作為國際金融及科技交流樞紐，需要關注這類供應鏈動態，評估對本地科技企業和投資環境的影響。同時，投資者亦應留意ASML等龍頭企業在全球政治經濟變局中的風險與機遇，因為它們的業務表現不僅受技術創新驅動，更深受國際政策變動影響。
總結而言，EUV光刻設備的出口限制不僅是技術問題，更是全球科技格局與戰略博弈的縮影。持續關注這類政策走向，將有助於更全面理解未來半導體產業及國際關係的演變。
以上文章由特價GPT API KEY所翻譯及撰寫。
