極紫外光刻市場2032年將達357億美元

極紫外線（EUV）光刻市場預計到2032年將達到357億美元，受先進半導體製造需求驅動

極紫外線（EUV）光刻市場正在增長，這主要是由於人工智能、5G和高性能計算創新所推動的先進半導體製造需求。

根據SNS Insider的報告，極紫外線（EUV）光刻市場在2023年的價值為100.9億美元，預計到2032年將達到357億美元，並在2024年至2032年間以15.1%的年均增長率增長。

極紫外線光刻市場：驅動力量與行業趨勢

極紫外線光刻市場的增長受到技術進步、半導體複雜性增加以及對更小、更強大芯片需求的推動。人工智能、高性能計算、5G和物聯網等行業正促使對先進處理器的需求，這使得半導體製造商不得不投資EUV技術，以實現精確的7納米以下製程生產。英特爾、台積電和三星等主要企業正在採用EUV光刻技術，以提升芯片性能、降低功耗，並保持競爭優勢。

市場主要參與者及其產品

報告中列出的主要市場參與者包括：

– ASML Holding NV（EUV光刻機、高NA EUV光刻系統）
– Carl Zeiss AG（EUV光刻光學、EUV掩模檢測系統）
– NTT Advanced Technology Corporation（EUV掩模基板、EUV鏡面塗層）
– KLA Corporation（EUV掩模檢測工具、光學圖案化掩模檢測系統）
– ADVANTEST CORPORATION（EUV掩模缺陷檢測系統、半導體晶圓測試解決方案）
– Ushio Inc.（EUV光源模組、EUV掩模清洗系統）
– SUSS MicroTec SE（EUV掩模對準器、EUV光刻塗布和顯影系統）
– AGC Inc.（EUV掩模基板、EUV薄膜）
– Lasertec Corporation（EUV掩模檢測設備、EUV掩模缺陷審查系統）
– TOPPAN Inc.（EUV光掩模、EUV掩模基板）
– Canon Inc.（EUV掩模計量工具、納米壓印光刻系統）
– Nikon Corporation（EUV光刻設備、EUV計量和檢測工具）
– Intel Corporation（EUV製程節點、基於EUV的高性能計算芯片）
– 台灣半導體製造公司（EUV光刻用於3納米製程、基於EUV的芯片製造服務）
– 三星電子（基於EUV的DRAM和邏輯芯片、EUV光刻用於3納米和5納米節點）
– Toppan Photomasks Inc.（EUV光掩模、EUV掩模基板）
– ZEISS集團（EUV光刻光學系統、EUV掩模檢測工具）。

極紫外線（EUV）光刻市場報告範圍

– 2023年市場規模：100.9億美元
– 2032年市場規模：357億美元
– 年均增長率：2024至2032年期間15.1%
– 報告範圍及覆蓋：市場規模、細分分析、競爭格局、區域分析、DROC與SWOT分析、預測展望

市場驅動因素

– 對先進半導體芯片的需求不斷增加，推動極紫外線光刻市場的增長。
– 人工智能、5G和物聯網技術的需求上升，為極紫外線光刻市場創造新的增長機會。

隨著研發投資的增加、行業合作的加強以及光掩模和抗蝕劑材料的創新，市場增長進一步加速。然而，供應鏈挑戰、高成本和技術人才短缺仍然是限制因素，而美國、中國和歐盟的政府政策在塑造行業方向方面起著關鍵作用。此外，環境問題、專利趨勢和監管環境也影響市場動態，推動半導體製造的可持續實踐。

極紫外線光刻市場：光源領先，掩模和代工廠增長迅速

在設備方面，光源部分在2023年占據了極紫外線光刻市場39%的收入份額，這主要是由於對高強度、穩定的EUV光源在先進半導體製造中的需求。Ushio Inc.和Gigaphoton Inc.等公司正在提升激光產生的等離子體（LPP）光源，以增強其功率和穩定性。

掩模部分預計將以16.4%的年均增長率增長，這是因為無缺陷EUV光掩模的進步對於7納米以下的製程至關重要。ZEISS、Toppan Photomasks和AGC Inc.等主要參與者正在創新EUV掩模，以確保更高的精度、更好的產量和增強的光刻效率，特別是針對人工智能和5G應用。

在終端用途方面，集成設備製造商（IDM）部分在2023年占據了63%的收入份額，這主要是由於英特爾、三星和美光等主要企業在先進芯片生產中大量投資EUV技術。美光在基於EUV的DRAM製造上投資1000億美元，突顯出對5納米以下製程的推進。

代工廠部分預計將以16.06%的年均增長率增長，這是由於對合同芯片製造需求的上升。台積電、全球晶圓和中芯國際正在擴大基於EUV的3納米和2納米製程，以支持人工智能、自動駕駛汽車和物聯網的增長，確保半導體製造的持續進步。

亞太地區領先，北美成為增長最快的EUV光刻市場

在2023年，亞太地區主導了極紫外線（EUV）光刻市場，佔據41%的市場份額，這主要是由於台積電、三星和中芯國際等主要半導體製造商在7納米和3納米芯片生產上的投資。中國推動半導體自給自足以及日本在EUV光掩模方面的進步進一步加強了該地區的領導地位。

北美是增長最快的市場，年均增長率達到16.3%，這主要得益於美國CHIPS法案為半導體製造提供的520億美元資金。英特爾、美光和全球晶圓正在擴大EUV的應用，特別是在英特爾4和下一代DRAM方面。ASML在高NA EUV技術上的合作進一步加速了北美的增長。

近期發展

2025年1月29日 – ASML在人工智能熱潮中看到30億歐元的EUV訂單創紀錄。ASML報告稱，由於對其先進EUV機器的需求激增，淨訂單大幅上升。

2024年4月26日 – 三星的李在鎔加強了與蔡司的EUV合作。三星的李在鎔與蔡司首席執行官卡爾·蘭普雷赫特會面，擴大在下一代EUV和半導體技術上的合作，旨在挑戰台積電的領導地位。

在這個快速發展的市場中，EUV光刻技術的前景無疑是光明的。隨著技術的進步和市場需求的增長，企業必須不斷創新，以保持競爭力。這不僅是半導體行業的挑戰，也是全球科技進步的重要一環。

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