全球晶圆厂设备开支保持强劲 该细分领域需求持续提升
近期，全球晶圆厂的設備開支持續強勁，並且光刻機的需求也在不斷上升。根據興業證券的分析，ASML預計到2030年，全球半導體銷售額將超過1萬億美元，2025至2030年間的年均增長率（CAGR）將達到9%。在2025年至2027年期間，全球300mm晶圓廠設備的支出預計將分別為1232億美元、1362億美元和1408億美元，與去年相比，增長率分別為24%、11%和3%。
光刻機作為半導體設備中市場占比最大的品類，佔有24%的市場份額。隨著先進邏輯及存儲芯片製程的不斷迭代，極紫外光（EUV）光刻機的比重也在不斷提升。光刻機是芯片製造過程中的核心設備，目前全球的前道光刻機市場由ASML、尼康和佳能三家企業壟斷，因此實現光刻機的國產化具有重大的戰略意義。
根據財聯社主題庫的數據，相關的上市公司中，茂萊光學專注於提供光刻機光學系統的光學元件及核心模塊，而張江高科則通過其子公司對上海微電子公司進行了投資，顯示出其在半導體領域的布局。
在市場的驅動下，光刻機需求的增長不僅反映了半導體行業的繁榮，也預示著技術進步的迫切需求。隨著全球對於半導體的依賴日益加深，相關企業必須加速技術的研發與創新，才能在未來的競爭中佔據有利地位。
從長遠來看，這股需求的上升不僅對於半導體行業本身有著深遠的影響，還將促進相關行業的發展，如材料科學、機械工程等，形成一個更為廣泛的產業鏈。投資者在考量相關股票時，應該關注這一波半導體設備需求的變化，並適時調整自己的投資策略。
以上文章由特價GPT API根據網上資料所翻譯及撰寫，過程中沒有任何人類參與 
