中國AI專家指中國正逐步縮窄與美國科技差距
北京消息——儘管面臨先進芯片製造設備不足的限制，中國在人工智能（AI）領域的風險承擔及創新能力推動下，正逐漸縮窄與美國的技術差距。中國頂尖AI研究人員於近日舉行的北京AI會議上表示，這一趨勢明顯，而中國政府亦積極推動AI及芯片企業在港股上市，藉此加強國內對美國先進技術的替代方案。
曾任ChatGPT開發公司OpenAI高級研究員、現任騰訊首席AI科學家的姚順宇指出，未來三至五年內，中國企業有望成為全球領先的AI公司，但目前最大的技術瓶頸仍是缺乏先進的芯片製造機器。姚順宇表示：「我們目前在電力和基礎設施方面具有明顯優勢，但產能，特別是光刻機等設備，以及軟件生態系統，是主要限制因素。」
據路透社上月報道，中國已完成一台極紫外光（EUV）光刻機的工作原型，理論上可生產媲美西方的先進半導體芯片，但該機器尚未成功製造出可用芯片，消息人士稱可能要到2030年才有望實現。
投資差距仍存，但激發創新動力
在此次北京會議上，阿里巴巴旗艦大語言模型Qwen技術負責人林君陽坦言，美國在計算基礎設施方面的投資遠超中國，規模可能大一至兩個量級。不過，他認為美國無論是OpenAI還是其他平台，都在積極投入下一代研究；相較之下，中國資源有限，促使研究人員更注重創新，尤其是通過算法與硬件共同設計，使得大型模型能在成本較低的小型硬件上運行。
智譜AI創始人唐杰在公司成功籌集43.5億港元上市後，強調中國年輕AI創業者願意承擔高風險，這一特質過往多與矽谷關聯，是推動創新的重要因素。他呼籲政府及國家能進一步改善環境，給予這些敢於冒險、具有智慧的人才更多時間和空間去創新。
編者評論：中國AI崛起背後的挑戰與機遇
這篇報導清晰描繪出中國在AI和高科技領域的快速追趕態勢，尤其是在全球科技競爭日益激烈的當下。中國憑藉龐大的市場規模和政府政策的支持，正加速培育本土AI企業，並試圖通過資本市場提升產業競爭力。然而，核心技術如先進光刻機的缺失，依然是中國科技自主的最大障礙，這不僅是技術問題，更涉及國際政治與供應鏈安全。
美國在計算資源和基礎設施上的巨大投資，形成了對中國的技術壁壘，但中國資源有限反而激發了創新思維，特別是算法與硬件的協同設計，這種“彎道超車”的策略值得關注。年輕創業者敢於冒險的精神也表明，中國的創新生態正逐步成熟，正向美國矽谷的風險文化靠攏。
不過，這條追趕之路充滿挑戰。中國要真正成為世界領先的AI強國，不僅需要突破硬件製造瓶頸，還要培養一個更開放、包容的創新環境，吸引全球頂尖人才。此外，技術自主與國際合作如何平衡，將是未來中國科技發展的關鍵課題。
總結來說，中國AI產業的迅速崛起，是全球科技版圖變動的重要信號。香港及其他華語地區的投資者和科技從業者，應密切關注中國在這一領域的政策走向和技術突破，因為這將深刻影響未來全球科技競爭格局以及資本市場的投資機會。
以上文章由GPT 所翻譯及撰寫。
